Виды низкотемпературной плазмы


Плазма тлеющего разряда возникает при давлениях приближенных к вакууму. Этот вид плазмы является однородным, а размер герметичной камеры, в котором она возникает, может достигать больших объемов. Благодаря своим характеристикам, тлеющий разряд широко применяется в медицинской, фармацевтической, пищевой, текстильной и других отраслях промышленности. Его главный недостаток - необходимость создавать пониженное давление и специальную газовую среду.





Плазма барьерного разряда возникает между двумя электродами, разделенными диэлектриком при атмосферном давлении, однако разрядный промежуток также мал, не более 3 мм. Данный вид плазмы является неоднородным. Плазма барьерного разряда применяется в промышленных озонаторах, установках по обеззараживанию сточных вод, при обработки сельхоз продукции, в химической промышленности и т.д.






Плазма коронного разряда возникает на электроде сильной кривизны при атмосферном давлении. Однако, ее максимальный разрядный промежуток - не более 5 мм. Кроме того, разряд крайне неоднороден, что ограничивает его применение.